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一种连续式硅碳负极动态CVD烧结炉
摘要：本发明公开了连续式硅碳负极动态CVD烧结炉,包括安装平台,螺旋进料器,炉头罩,炉管和炉尾罩,炉管头端位于炉头罩内且尾端位于炉尾罩内,螺旋进料器与炉头罩密封对接,炉尾罩上设有出料口,炉管头端于炉头罩之外的部分设有第一密封法兰,第一密封法兰与炉头罩之间设有第一波纹管,第一密封法兰与第一波纹管之间密封连接,二者连接处的外周套有第一抽气罩,炉管尾端于炉尾罩之外的部分设有第二密封法兰,第二密封法兰与炉尾罩之间设有第二波纹管,第二密封法兰与第二波纹管之间密封连接,二者连接处的外周套有第二抽气罩.本发明采用抽气罩将可能泄露的气体及时抽走,防止危险气体泄漏引发爆炸危险,整体密封性好,安全可靠.
申请(专利)号： CN201910758826.7
申请日期： 2019-08-16
公开/公告号： CN110500879A
公开/公告日期： 2019.11.26
申请(专利权)人：中国电子科技集团公司第四十八研究所
发明人：王建业，曾帅强，龙纯，谢礼飞，宋晓峰，何易鹏
国省代号： CN430103
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