光亮退火炉可以更有效地支持客户的生产工艺，主要用于各种大型金属或合金工件和批量退火热处理，以天然气或煤气为介质进行燃烧加热，控制先进，精度高。燃烧控制系统由喷嘴前供气管道系统、喷嘴前压缩空气管道系统、喷嘴前燃气管道系统、亚高速燃烧器、炉前点火控制系统和温度控制系统组成。不同的温度控制器控制不同的燃烧器，从而实现大小火和炉温的自动控制。配有多通道彩色无纸记录仪，可直接与上位机通讯，实时监控气体光亮退火炉内各点温度。

　　光亮退火炉可以更有效地支持我们客户的生产过程

　　热炉是指炉内温度必须高于800。在炉内冲洗之前，氨区分气公司应从氨区子装置冲洗99%的纯氮气至管道、流量计和马弗炉罐。当氨区分气，准备给炉子加满水时，打开排气阀并把它放下。然后向炉内充入氨分化气。设备的正常运行温度不得低于750。此外，在应用过程中不可能防止任何烃类气体爆炸。

　　在短时间停电的情况下(15分钟左右)，操作人员不要紧张，因为炉和氨分化炉都有一定的热量，足以保证15分钟内给炉供气。如果你15分钟内不打电话。停工应按照“停工安全规则”进行。

　　停机后的最佳平衡冷却，即所有四个温度区都在同一温度下冷却。(100后再次下跌)原因是：由于风扇效应。四个温度区的冷却速度不同。这对马弗的生命周期不利。长时间停炉时，应重新开炉，氨分化炉和吸附塔应活化再生。在炉子启动期间，确保分气， 氨区的露点质量。塔a和塔b最好依次干燥一次。

　　光亮退火炉是一种制造半导体器件的工艺，包括加热几个半导体晶片以影响它们的电性能。热处理是为不同的效率而设计的。硅晶片可以被加热以激发掺杂剂，将薄膜转换成薄膜或晶片-衬底界面，从而改变精细沉积的薄膜，修复生长的薄膜，修复注入的缺陷，移动掺杂剂或将掺杂剂从一个薄膜转移到另一个薄膜或从薄膜转移到硅晶片。