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光亮退火炉介绍
光亮退火炉是一种新型换热设备。光亮退火炉是半导体器件制造中使用的工艺，包括加热多个半导体晶片以影响它们的电功能。热处理针对不同的功能进行规划。晶片可以被加热以激活掺杂剂，将薄膜转换成薄膜或晶片衬底界面，精细沉积薄膜，改变生长薄膜的状态，修复注入的损伤，将掺杂剂从一个薄膜移动或转移到另一个薄膜，或者从薄膜进入晶片衬底。加热方式有电加热、燃油、燃气、燃煤、热风循环。光亮退火炉的使用
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