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光亮退火炉现已广泛应用于工业领域
光亮退火炉现在广泛应用于工业行业，是一种非常重要的设备。光亮退火炉根据不同的工作环境有多种分类。退火炉是半导体器件制造中使用的工艺，包括加热多个半导体晶片以影响它们的电特性。热处理是为不同的效果而设计的。晶片可以被加热以激活掺杂剂，将薄膜转换成薄膜或晶片衬底界面，密集沉积薄膜，改变生长薄膜的状态，修复注入的损伤，将掺杂剂从一个薄膜移动或转移到另一个薄膜，或者从薄膜进入晶片衬底。
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