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退火温度对Al、Cu、Ni诱导Si薄膜晶化进程的影响

退火温度对Al、Cu、Ni诱导Si薄膜晶化进程的影响

退火温度对Al、Cu、Ni诱导Si薄膜晶化进程的影响作者:蒋百灵,李洪涛,蔡敏利,苗启林,杨波摘要:基于金属诱导晶化方法,利用直流磁控溅射离子镀技术制备了Al-Si、Cu-Si和Ni-Si薄膜。采用真...

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退火温度对Al(Ce)诱导Si薄膜晶化过程的影响研究

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退火温度对Al(Ce)诱导Si薄膜晶化过程的影响研究作者:郭佳丽摘要:基于铝诱导晶化方法,通过直流磁控溅射离子镀技术利用纯Al,纯Si和Al(Ce)靶材,制备了Al-Si和Al(Ce)-Si薄膜.采用...

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真空退火炉模型的机理分析与优化

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真空退火炉模型的机理分析与优化作者:陈润冬摘要:近年来,随着对零件性能,精度要求的提高,真空退火炉越来越受到人们的重视.真空退火是提高金属材料机械性能及其制造质量的重要手段.提高了温控系统的稳定性,自...

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真空连续退火炉温度控制系统研究

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真空连续退火炉温度控制系统研究作者:姜赫摘要:近年来,随着对设备性能和精密零件要求的提高,真空退火已成为金属热处理技术开发研究的主要方向.在真空退火的过程中,必须对退火温度进行精确稳定控制,因为退火温...

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大型高真空退火炉温度控制系统的研究

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大型高真空退火炉温度控制系统的研究作者:郭军献研究了真空退火炉的传热特性,利用遗传算法和神经网络对模型参数进行优化辨识,建立了真空退火炉的两种控制模型,并分别对两种控制模型进行了分析和比较。基于这些模...

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